光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界？

1. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界？

2. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界

我个人认为，西方欧美国家在高科技方面抱团对我国及俄国的技术封锁。才造成今天俄罗斯，在高科技电子方面的落后，看看苏30战机内部显示屏，一目了然。今天我国和俄国在大飞机及华为芯片的合作，一定会突破西方的封锁！

目前最先进的光刻机已经不是透镜式，因为波长极短的紫外线会被玻璃吸收，要用反射式镜面，难度更高。我们差的不是一点半点。ASML的光刻机，也离不开蔡司的镜头，美国的光学仪器，也是组装嘛。那么，我们也可以分几步走：暂时搞不好的，可以先买。等将来突破了，再用自己的。如此一来，岂不两全其美。当然，持续研发，需要持续投入，这就离不开国家支持。
自中兴事件以来较少看到有关芯片的好消息，这个消息无疑给国人些许安慰。相信中华民族是强大的民族，国外的技术封锁是阻止不了中国的前进步伐，经过国人艰苦卓绝的努力，一定会在不远的将来突破芯片技术瓶颈独步于天下。

当芯片物理尺寸区别不是很大，功效都是一样时，没有什么值得去纠结的了，在功效一样情况下，他国小尺寸芯片与我国尺寸稍大芯片比较起来，这个尺寸大小完全可以忽略不计了，中国完全没有必要心慌于人，倒是我觉得媒体过度炒作了，中国根本不用慌。
“整个机器需要三万余个零件，每一个零件都不能有丝毫偏差，一丝一毫的偏差都不能使千万的电路一丝不乱，毫无偏差的分布在指甲盖大小的芯片上面，我国在上面要走的路还很长。”，还好，我们是文盲，要不还真让你们这些文科生就给懵了！我们知道有公差配合，配合有标准，有偏差不怕，怕的是公差带设计计算不合理，公差带要求低了，产品不达标，高了产品生产成本高昂，也是浪费。这是常识，用违反常识的言论堆砌的文章，小了被人耻笑，大了那就是误国误民。奉劝不懂理科工科的文科生，以后尽量不要去写理工科的文章。 中国现在有很多领域很落后，原因挺简单：1、没有市场；2、没人去做；3、没有做过。就拿汽车发动机来说，国内的市场就很小或没有，（别跳脚），试问：两辆外观一样的轿车，一辆用吉利发动机一辆用丰田的，价格等都一样，买车时你选哪一个？你的答案就是中国品牌发动机难于打开市场的原因。

没关系的，让他们封锁就是，他们用7nm也好5nm也好，我们就用我们的90nm不就是芯片大点功耗高点么，同样的芯片人家做出来的cpu一点点大我们做出来的一个桌子大也没关系，不就是多耗点电体积大点么我们能用就行，大不了今后扛着手机出门，多洋气。现在国外对我们光刻机禁运。那就想想别的方法。不能用和平方式取得得东西就用别的方式。自己造出这样的设备就先别希望去抢市场了。还是先满足自己使用再说。
许多电子原件技术是80年代后落下的，70年代我们的晶体管质量相当过硬，亲身经历，70年代5安培晶闸管可以长时间工作在10安培！80年代也还可以，算正常吧，90年代就变烂了，直至现在，功放的2SA1216与2SC2922都造不好了！竟然没有真正能代换的国产品，耐压与最大电流都垃圾的不行，只能达到额定量的一半，非得买东芝原厂的才能行！这个早就没有什么技术含量了，但就是造不好，怎么回事？

相信有朝一日，不久将来，终有一日，弯道超车。尽是些无谓说话。今天世界，讲的是全球化，没有任何一个国家可以独霸全球所有科技及制造，军备竞赛，科技竞赛只会极容易使经济崩溃。。尊重世界的游戏规则，尊重契约。融入世界之中，各自发挥优势，扬自己所长，以别人之长补自己所短才是正路。乱呼口号只会误国！国内各大科技公司肯定一窝风的研发光刻机、之类的高科技产品、设备、是不是能有另辟稀径研发新材料、易加工、等等吧！目前的产品、肯定费心费力、费钱。这样才是弯道超车。

干了也就那么回事！十几年前，有人说中国研发不了新车型，外国开发一个新车型要多少百亿美金，什么模具，什么发动机，什么工厂，什么供应链管理，好像要什么没什么。看看现在，去做了，除开不争气的一汽闹个笑话几百亿之外，大家不都在开发新车型吗？大家不都赚钱了吗？光刻机也就那么回事，别人说个数字吓吓你，你也信？
当外国人不给芯片中国的时候，自己做出来的那怕是90纳米也可以用啊，感觉低纳米的东西主要也是电脑和手机这些高端产品用啊，90纳米的做出来，也有很多不追求高性能的地方可以用上啊，比如监控，汽车，电视，路由器，交换机，各种低端智能设备什么的，用得上有很多啊，这些东西，只要做开了，后面就出来了。

我国28nm已经量产了。14nm已经在走量化过成了。国际上从14到现在10用了几年。没那么邪乎。芯片生产有它的特点是高投入高产出它受市场经济影响很大。人家开发早都已抢占了市场。我们后发得不到市场就难以为继。因为投入太高。国家太跟流氓国家讲市场经济了。现在好了美国的流氓手段做到面上了。我国就可以以国家利益手段占领市场了。
自主研发追赶要好过拾人牙慧放弃不追赶，别人高价丢给你现成的不如自己创造机遇生产，那还不如个满大街收破烂的，他还知道卖巧钱挣差价不实诚的他不收还不够他出力拉车的辛苦钱，国家核心技术国之重器岂可以受制于狼子野心的外国？分分钟坑到你倾家荡产，国运岂可以是区区金钱可以衡量的，房子再挣钱能换几个原子弹。

中国已经有独立自主知识产权的光刻机，包括最难的光源设备。只是没有达到荷兰阿斯麦那么先进而已。毕竟中国光刻机起晚，并不是像你们这些自卑心严重的人想的那么困难。达到世界领先水平，相信用不了多长时间。
很大的难度在于精密加工，中国制造业目前还是处于低端，少数高端的，而光刻机要求所有零部件都必须是最顶级的。我只能说，中国会造出来光刻机，但需要时间，毕竟就算懂原理，制造业跟不上也不行，所以目前中国可能造不出顶级光刻机，因为制造业跟不上，但我相信未来一定可以造出光刻机，毕竟中国是全球唯一一个拥有全工业门类的国家！

ASML卖了DUV光刻机给中芯国际，已经卖了EUV光刻机，应该去年底交货。去年初不知道为什么厂房大火，阻碍了交货日期，当今年交货时，因为出口批文过期，再申请后，荷兰政府被川普压迫，不批准出口而已。中芯国际可以用DUV光刻机做7nm芯片，麻烦一些而已。日本的佳能及力康都产光刻机，但没有EUⅤ光刻机。光刻机零件不是军用物品，好像不是对中国禁运。美国可能因为川普之故禁运，但其他国家不好说，尤其是德国。中国也有跟日本购买光刻机。光刻机是人造的，再过几年便可以知道中国人可不可以做。不做的原因是因为市场太细，是缝隙产品，用户又少，养不活太多厂家而已。
集大成说得好，中国现在是制造业大国，但是中国很多制造企业缺少一个精益求精的企业管理精神。量虽然上来了，但是和德国，日本，法国，意大利这样的国家相比，差距很大。可能是中国的工业时代起步较晚，但是工业理念需要一起转变，然后还有一系列的事情要做！信息时代的来临，在大潮中我们受益良多，但是我们是在别人创造出来的基础上延伸，没有做到在基础中抓牢稳固。一个光刻机不难，难得是对每个附件了解透策运用自如。

所以说，中国从小学到大学在到科学家，要重视人才，重视品质，重视科学，现在老师都是看学生家长住什么房子，开什么车子，在什么单位，开什么公司，本质上还是没有做到人人平等，所以中国有些东西是真的没法跟国外比的，为什么国外要封锁中国进口的，高，精，端，产品，主要还是不重视素质教育和人人平等，有钱，有权，有关系的孩子到最后学习不怎么好但最后成了人才，中国就是这点问题。
都是已经成熟的产品，只要世界上有厂家做，就算美国的我们不买，其它国家的未必不卖，相信只要有钱，就算买不到那几家的，其它同类产品也一样能替代，精度也不会差多远！但这样看谁来运作，华为肯定可以做到！国企肯定不行！别问我为何？

说难听点，最后的办法可能就是战争。从宏观角度考虑，世界是动态平衡的，如果谁要刻意让一部分人活不下去，那么结果只能是战争。为什么经济危机会引发世界大战，因为没有哪个民族会坐以待毙。国家现在重点培养的都是，本科生，研究生，博士生，什么工厂的一线技工，根本就是一个屁，屁也不是。随时都有下岗的危险，国外有三代人学一个技术，在一个岗位，干一种活。在中国根本不可能实现。基础技术的延续性根本达不到，何谈机械制品的精度和装配工艺。
光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高装配就要用热胀冷缩的办法，不光是尺寸合格直线度、平行度、圆柱度都要严，要不装上去动不了。再就是光柱的控制，我认为挡板螺旋挡调光柱是一个可操作的办法。至于放缩电路图、数控不是问题。这就是我的观点。

原子的直径约0.1nm（1埃）或更小，气体分子间距大约1nm（标准状态），直径大约也近似这个大小。制造误差只能以材料分子的大小为单位。分子或原子是不能取小数的。所以，从物质的分子结构看，透镜磨制最小误差（不平整度）应该是半个分子大小，实际可能是一个分子大小，约100pm。
美国也不是买荷兰的光刻机，全世界就这一家造，但是中国就是要样样第一，比如圆珠笔芯全世界也只有瑞士在生产，美国也不行，现在中国也可以生产圆珠笔芯了，要不然喷子又要喷。就象国际空间站一样不带中国玩，最后中国自己搞一个，虽然过程艰苦但还是挺过来了。可控核聚变西方看到中国的实力就拉中国入伙，中国承接的部分进度领先，同时中国自己也独立打造一个自己的，即要合作也要独立。再过二十年，相信中国会在每一个重要领域都站在第一方阵。

3. 现代的高端光刻机，哪些国家才能制造？

荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML，这是一家总部设在荷兰埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

产品服务
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。
ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

4. 当前中国有能力自己生产光刻机吗？

当前中国有能力自己生产光刻机，上海微电子装备有限公司通过十七年的“卧薪尝胆”，持续攻关，基本掌握了高端光刻机的集成技术，并部分掌握了核心部件的制造技术，实现了“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想。
光刻机是一个由几万个精密零件、几百个执行器传感器、千万行代码组成的超复杂思维系统，要制造出光刻机，不仅仅需要科学技术上的攻关突破，还需要将大量的技术集成起来。

扩展资料：
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。
国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
参考资料来源：人民网——上海微电子的光刻机诞生之路

5. 中国的光刻机现在最先进到了哪个阶段？

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。
这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

6. 中国目前光刻机处于怎样的水平？为什么短时间内造不出来

中国光刻机生产落后，关键还是能够买进更先进的机器。如果西方国家实施制裁，禁止中国从西方进口，用不了几年，光刻机的生产就是赶不上他们，也不会与他们有大差距。成立中国企业基金会，中国银行联盟基金会，给中国的各类装备研发生产企业以年百亿级别的资金支持，派出国家院士团队全力支持研发，不愁一年两年搞不出来。
光刻机是一台机器，你可以不断分解这台机器，一直到各独立原件，尤其那些关键是几个部件，你会发现，做这个部件，要列出一大堆工艺设备技术，如同一棵树散出无数枝条和树叶，叶脉你就不要纠结了，就完善这些树枝和树叶就能把一万人累死！

现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成了样机制造，现在也是在调试阶段，相信要不了多久就能听到好消息了。还有3nm的制程我们也参与研制，我们是主要出资方，看看这些谁能说我们未来不是光明的？
中国在光刻机制造方面是单干，荷兰阿斯麦光刻机是集中了很多发达国家的技术精华，也不是荷兰一个国家所能，所以中国能自主生产90纳米的光刻机，我认为中国很了不起了，中国加油！

作为中国人，感觉真的不容易，所以的高科技，都要自己发展，中国需要的核心零件西方国家就都会限制，唯有靠中国人自己，别无他法，虽然处境这么恶劣，我依然庆幸自己是中国人，我骄傲，若干年以后，世界上就会只剩下中国和外国啦，时间应该不会太久，加油自己，加油中国人。
目前我国能生产光刻机的企业有5家，最先进的是上海微电子装备有限公司，光刻机量产的芯片工艺是90纳米，目前正在向65纳米迈进，而国外最先进的是5纳米，正在向3纳米迈进，这中间差了整整9个台阶，按每个台阶4～5年的差距，尚需40年的追赶。

建议我们国家还是要坚持以经济发展为主，经济投入以基础设施、教育、高科技为首。别人有的我们一定要有并且还比别人更先进，别人没有的我们要真起有。别国的事情在没有对我国大的利益损失的情况下最好不管或少管。在保证国家安全情况下千万不要搞军备竞赛、更不要搞什么抗美援朝抗美援越。只要国民还忍耐25年，静心发展经济，我国国民产值达到年/50万亿(美元)，超过美、欧总产值，那我国家就是大哥大，到时我们国家想怎么样调控世界就是我们说了算。

术业有专攻，我们很多年前就开始了自研，花了大量钱和精力，但很多方面从基础教育等等都好像做不好这个，足球一样，西方高科技科技人员很淡定，很精致，他们个人综合素质也很好，很多人是在听着古典音乐时思考的，不一样思维模式。美国这种玩法不对。现在都是全球大分工大合作，而它是逆天行事，要逼中国的一个企业，要逼中国一个国家，从最基础的材料，从最基础的零件开始，做到包括高精密测量、高精度控制，以及各个高技术领域所有的事情，一个企业一个国家匹敌整个世界，超级大国如它自己也做不到，我们怎么做得到。这是赤裸裸的霸凌。中国应该强力反击，不惜付出任何代价。
光刻机的牛逼之处在于这家企业的匠心精神，经历了几代人的千锤百炼和技术上不断的沉淀，一步一步的形成今天的核心技术，不是一蹴而就，更不是砸钱砸出来的，一个基本的逻辑，如果砸钱可以，我们是不是能砸出个宇宙电梯？我们上百年的企业几乎空白，企业的平均寿命又是多少？

光刻机我没看过原理，但是难度也就说如何做出那么细的光，光敏胶跪求日本好了。那么细的光只有聚焦而成，而且考虑步进的问题，必须有大光学镜头配合光源和步进电机，步进电机可以跪求美国和日本，还有德国。有电机就得有传动啊，导轨啊，传动和导轨能做吧，不能做去上吊好了，我也救不了中国。砸钱是能够砸出高端光刻机的，事实并不是这样的，高端光刻机和高端航空发动机、高端极精密数控机床等，涉及的领域很多，设计、材料、加工、工艺、检测、标准等等，这些都是靠人才、靠研究、技术积累，靠时间的投入，当然也要大量的资金。

有人说的好：“钱不是万能的，但没有钱是万万不能的”，但是还有人说的一句话更有道理：“有钱能解决的问题都不是问题”，而芯片等领域恰恰是光有钱也不一定能解决问题的，否则为什么我们要花那么多钱钱去买，为什么华为宁可被罚了那么多钱也要美国的芯片，不会把这些钱投入自己造啊，关键是有钱也造不出啊！有些领域一不能逆向模仿，二不能弯道超车，三不是喊“口号”喊出来的，抓紧追赶才是正道。
中国只要不计成本，搞出高端光刻机是早晚的事，如果高端芯片也搞出来，自己的光刻机给自己的芯片厂商用，不用再进囗，国外芯片厂商卖不动芯片，自然不再买光刻机，逼迫荷兰光刻机厂商大亏损，甚至垮台，中国在世界就是真正的巨人了。赚钱就是自然的了。这事全世界只有中国能做。

7. 为什么我国造不出光刻机

我国造不出光刻机，有以下三个原因：1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持。3.ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星、台积电，英特尔等等。所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制。因此，只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机，才能打破这种束缚。

8. 光刻机的制造为什么这么难?

首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。
其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。
其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。
美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。所以说对于我国很多中小企业来说，他们没有充足的资金去研发光刻机。并且加上目前市场已经存在一定的饱和，这些新研发的企业如果大量将产品投产到市场当中，无疑会使得竞争对手和自己两败俱伤。
最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。
从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。并且从目前来看，上海微电子装备已经能够研发出90纳米工艺的芯片。而另外一家公司能够研发出半导体直写的光刻机。并且已经能够实现最高200纳米的量产技术。